1、本文主要论述基板员偏压与铜基体磁控溅射离子镀铝膜的关系。

2、本发明是一种应用于多弧离子镀、渗设备中的柱状阴极电弧源。包括管状阴极靶材、管内安装的行于轴线的数根条形磁钢、磁钢整体做旋转运动。

3、本论文采用电弧离子镀技术，纯氩气气氛下，在AZ91镁合金上制备了类金刚石薄膜及钛掺杂类金刚石薄膜。

4、本文利用朗缪尔双探针对电弧离子镀等离子体进行了诊断。

5、也可以单独作为磁控溅射或多弧离子镀膜机使用。

6、利用脉冲多弧离子镀技术在硅基底上沉积类金刚石薄膜.

7、磁控溅射离子镀铝膜不是简单的单质外接铝膜，而是铜和铝组成的合金膜。

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8、磁控溅射离子镀铝膜不是简单的单质外接铝膜，而是铝和铁组成的合金膜。

9、提出了一种关于多弧离子镀合金涂层成分离析效应的物理模型。

10、本实用新型是一种柱状靶等离子镀膜机。

11、离子镀不锈钢表壳与表圈比赛的乐队给它一个时髦的外观。

12、多弧离子镀技术是离子镀技术的一种改进方法，它是把弧光放电作为金属蒸发源的表面涂层技术。

13、黑色离子镀不锈钢圆形表壳和标识，日期窗口和黑色表盘数字指标。

14、采用化学镀铜和多弧离子镀铝两种方法在玻璃纤维表面制备导电膜。

15、采用多弧离子镀技术沉积氮化钛铝超硬反应膜。

16、重点分析了系统效率，等离子体传输影响因素和真空阴极电弧离子镀技术在薄膜研究和制造中的应用。

17、本文将主要叙述等离子溅射镀膜的原理与方法,并且简单介绍磁控管溅射仪和锇等离子镀膜仪等.

18、其次是黑色镀层，探讨了目前较受欢迎的电镀黑色锡镍合金及离子镀碳化钛。